專利申請是有風險的，并不是申請了就一定能夠授權(quán)。一般而言，外觀設(shè)計和實用新型專利申請由于只需通過初步審查即可獲得授權(quán)， 因而授權(quán)失敗的風險較小，而發(fā)明專利申請需要通過初步審查和實質(zhì)審查才能獲得授權(quán)，因而授權(quán)失敗的風險相對較大。